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雷達目標散射特性測量與處理新技術 版權信息
- ISBN：9787118114188
- 條形碼：9787118114188 ; 978-7-118-11418-8
- 裝幀：一般膠版紙
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>
雷達目標散射特性測量與處理新技術 本書特色
目標RCS測量、處理和評估貫穿于隱身裝備設計、研制、試驗和使用維護的各個階段。《雷達目標散射特性測量與處理技術》在對RCS測量與處理技術領域公開文獻資料進行歸納和分析的同時，重點對作者所在實驗室近年來在該領域的基礎理論、實驗和應用性研究成果進行了系統的總結，尤其是對外現有文獻鮮有涉及而工程實用價值又較高的新模型、新方法和新技術進行了討論。全書一半以上的篇幅用于闡述作者所在實驗室的理論和技術研究成果。
全書共分為8章，首先建立目標寬帶散射函數和散射分布函數的概念，然后圍繞可探測目標的RCS測試場和寬帶成像診斷測量技術問題進行討論，主要包括：RCS測試場和寬帶相參測量雷達、低散射目標支架設計方法、新型RCS定標體與定標處理技術、背景輔助測量與提取技術、目標高分辨率診斷成像技術、極化校準測量與處理技術，以及RCS數據的處理、評估與報告等。
《雷達目標散射特性測量與處理技術》可供從事低可探測目標設計實驗、目標與環境特性、雷達目標散射現象學、武器系統仿真等技術領域的廣大研究人員、工程技術人員和部隊官兵參考，也可作為相關*校教師和研究生的教學與研究參考書。
雷達目標散射特性測量與處理新技術 內容簡介
目標RCS測量、處理和評估貫穿于隱身裝備設計、研制、試驗和使用維護的各個階段。《雷達目標散射特性測量與處理新技術》在對RCS測量與處理技術領域公開文獻資料進行歸納和分析的同時，重點對作者許小劍所在實驗室近年來在該領域的基礎理論、實驗和應用性研究成果進行了系統的總結，尤其是對國內外現有文獻鮮有涉及而工程實用價值又較高的新模型、新方法和新技術進行了討論。全書一半以上的篇幅用于闡述作者所在實驗室的理論和技術研究成果。 全書共分為8章，首先建立目標寬帶散射函數和散射分布函數的概念，然后圍繞可探測目標的RCS測試場和寬帶成像診斷測量技術問題進行討論，主要包括：RCS測試場和寬帶相參測量雷達、低散射目標支架設計方法、新型RCS定標體與定標處理技術、背景輔助測量與提取技術、目標高分辨率診斷成像技術、極化校準測量與處理技術。以及RCS數據的處理、評估與報告等。 本書可供從事低可探測目標設計實驗、目標與環境特性、雷達目標散射現象學、武器系統仿真等技術領域的廣大研究人員、工程技術人員和部隊官兵參考，也可作為相關院校教師和研究生的教學與研究參考書。
雷達目標散射特性測量與處理新技術 目錄
第1章 概論
1.1 雷達基礎
1.1.1 電磁波譜與雷達頻段
1.1.2 *基本的雷達系統
1.1.3 雷達方程
1.2 目標RCS的基本概念
1.2.1 目標RCS的定義及其物理意義
1.2.2 目標RCS與雷達探測
1.3 目標散射函數的概念
1.3.1 目標散射函數的定義
1.3.2 雷達系統與目標和環境的相互作用模型
1.3.3 目標散射特性的高分辨率成像測量
1.4 目標電磁散射特性測量的技術需求
參考文獻
第2章 RCS測試場與測量雷達
2.1 室外測試場
2.1.1 抑制外場地面反射的不利影響
2.1.2 遠場準則
2.1.3 地面平面場
2.1.4 倒V形測試場
2.1.5 高架測試場
2.1.6 動態測試場
2.2 室內測試場
2.2.1 室內緊縮場
2.2.2 室內錐形暗室
2.2.3 球面波微波暗室
2.2.4 近場非消波測試場
2.3 地面平面測試場
2.3.1 地平場的基本原理
2.3.2 目標和天線架設
2.4 地平場設計和使用中的若干問題
2.4.1 對菲涅爾區的要求
2.4.2 天線方向圖影響
2.4.3 目標區增益的調整
2.4.4 目標—天線架設高度與寬帶測量的矛盾
2.4.5 測試靜區的平面波特性
2.5 RCS測量雷達
2.5.1 寬帶波形與徑向距離分辨率
2.5.2 LFM測量雷達
2.5.3 步進頻率測量雷達
2.6 雷達系統性能對RCS測量的影響
2.6.1 系統飄移
2.6.2 接收機I／Q通道平衡
2.6.3 系統線性度影響
參考文獻
第3章 低散射目標支架
3.1 發泡材料支架
3.1.1 發泡材料支架的造型
3.1.2 充氣支架
3.2 低散射金屬支架
3.2.1 低散射金屬支架的外形設計
3.2.2 低散射金屬支架的散射機理
3.2.3 低散射金屬支架的RCS預估
3.2.4 目標與金屬支架之間的耦合影響
3.3 低散射端帽
3.3.1 低散射端帽的作用
3.3.2 低散射端帽外形設計
3.3.3 利用低散射端帽測量背景電平
3.4 一個用于低RCS外形設計的萬能公式
3.4.1 低散射外形設計分析
3.4.2 用于低散射外形設計的萬能公式
3.4.3 設計示例—1：低散射支架設計
3.4.4 設計示例—2：低散射端帽設計
3.5 精確預估和分析低散射端帽和支架RCS特性的方法
3.5.1 低散射端帽的RCS預估
3.5.2 低散射支架的RCS預估
參考文獻
第4章 目標RCS定標技術
第5章 背景測量、提取與抵消技術
第6章 高分辨率RCS診斷成像
第7章 極化測量與校準技術
第8章 RCS數據的處理、評估與報告
圭要符號表
縮略語
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雷達目標散射特性測量與處理新技術 作者簡介
許小劍，1963年生，江西萬安人。1983年合肥工業大學獲無線電技術專業工學學士，1986年航天部二*獲電磁場與微波技術專業工學碩士，1994年英*帝*理工學*高級訪問學者，2002年美布拉斯加大學獲博士學位。2002年以前在北京環境特性研究所從事科研和科研管理工作，2003年起任北京航空航天大學電子信息工程學*教授、博導。長期從事*防科學技術領域研究工作，主要研究方向包括遙感特征建模、分析與處理，雷達成像、圖像理解與目標識別等。獲*家科技進步二等獎1項，部級科技進步一等獎2項、二等獎4項、三等獎1項；***特殊津貼專家、航天總公司有突出貢獻專家。合作出版專著與教材5部，發表學術論文260余篇，其中SCI和EI檢索約200篇，授權發明30余件。
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