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微小世界里的新天地:神奇的薄膜 版權信息
- ISBN：9787030319357
- 條形碼：9787030319357 ; 978-7-03-031935-7
- 裝幀：暫無
- 冊數(shù)：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 本書特色
在我們的日常生活中，很多人的腦子里都充斥著“薄膜”一詞，他們圍繞著薄膜夜以繼日地開展工作，從事研究、學習和相互交流。可以說制作薄膜、使用薄膜以及從事薄膜相關產(chǎn)業(yè)的人遍布世界各地。 麻蒔立男著的《微小世界里的新天地--神奇的薄膜(四色全彩)》主要介紹了薄膜相關領域的前輩們留下的這一技術中的基礎內(nèi)容。如果讀者希望更深入地了解和研究這一領域，可以查找卷末列出的參考書籍和參考文獻，從中獲取自己需要的相關信息。 對于書中較難理解的部分，作者麻蒔立男根據(jù)自己的經(jīng)驗從身邊的現(xiàn)象和事例人手進行說明，以幫助讀者加深理解，可能有些地方會與物理學內(nèi)容不一致，但還是請大家了解這些事例的列舉僅僅是為了方便理解而已。
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 內(nèi)容簡介
本書介紹了薄膜的生產(chǎn)、特性以及應用, 內(nèi)容包括制備薄膜的重要環(huán)境條件 —— 真空、薄膜的制備、薄膜特有的性質、增強基板與薄膜結合的技術、等離子體在薄膜制備中的重要性等。
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 目錄
第1章 幸福生活從美麗與微觀開始
001 展現(xiàn)繽紛色彩的顏料用微小粉末描繪美麗世界
002 復制美麗——相片彩色相片與數(shù)碼相機
003 薄膜技術使機器人不斷進化利用薄膜材料與計算機進行精密制備
004 創(chuàng)造五種感官視覺、聽覺、嗅覺、味覺與觸覺的創(chuàng)造
005 制造人工智能
006 我們身邊的電子產(chǎn)品都在使用薄膜
007 利用不分解的壓延技術，可以薄到什么程度
008 制造薄膜與制作精細圖案
COLUMN 真空的含義
第2章 制備薄膜的重要環(huán)境條件——真空
009 真空——壓強低于大氣壓的空間狀態(tài)
010 真空的單位與壓強的單位：帕斯卡（Pa）
011 抽出和吸附——真空泵的分類
012 真空的分析和測量真空計
013 真空裝置的制造方法
COLUMN 質量瞬移
第3章 薄膜的制備
014 薄膜的形成——先氣化，再固化沉積
015 四種氣化源
016 單層生長與形核長大薄膜的生長①
017 薄膜內(nèi)部缺陷薄膜的生長②
018 僅有薄膜還不夠薄膜與基板的結合
019 目標：單晶薄膜
COLUMN 出身和教育同樣重要
第4章 薄膜特有的性質
020 薄膜的密度和厚度會隨時間減小
021 薄膜電阻的變化比體材料大
022 熱穩(wěn)定性降低通過時效處理加以克服
COLUMN 薄膜和基板的連接
第5章 增強基板與薄膜結合的技術
023 制膜的基礎：平整的基板
024 前期處理：使基板表面完全裸露
025 前期處理的*后工序：干燥
026 制備附著強度更強的薄膜
027 改變氣化源、增加附著強度
028 薄膜與基板的相合性更為重要
029 著陸點：險峻的山地
030 得到希望的薄膜組成
031 制造用于大面積集成電路的非晶薄膜
032 電遷移斷線及其解決方法
COLUMN 太陽之子——等離子體
第6章 等離子體在薄膜制備中的重要性
033 等離子體的神奇之處及其應用
034 通過放電獲得等離子體
035 低氣壓（良好真空）下的磁控放電
036 產(chǎn)生薄膜用等離子體的五種方法
037 薄膜制備的難題——塵埃
COLUMN 望遠鏡和照相機視場變亮的奧秘
第7章 從古代沿用至今的蒸鍍法
038 蒸發(fā)源
039 加工等厚膜的方法
040 離子鍍的使用
041 進一步發(fā)揮離子的作用
042 防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化激光沉積法
043 制作透明導電的薄膜透明導電薄膜的蒸鍍方法
COLUMN 活學活用
第8章 大面積氣化源、適于批量生產(chǎn)的濺射法
044 濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類決定的
045 濺射產(chǎn)生的原子遵循余弦法則且速度非常快
046 濺射的主要方式
047 以低電壓、定壓（高真空）為目標的磁控濺射
048 支撐半導體IC高集成度發(fā)展的鋁合金濺射
049 利用反應濺射制作高性能電阻膜
050 用濺射法制作氧化物高溫超導膜
051 低電壓下制造透明導電膜（氧化物）ITO
052 薄膜加工的過渡——從平面成膜到微孔成膜
053 利用離子進行超微細孔的填埋
054 向高真空、無氬氣濺射的過渡
COLUMN 神奇的過程——從氣體到薄膜
第9章 由氣體制作薄膜的氣相沉積法
055 氣體向固體的轉變：薄膜的氣相沉積
056 很多的CVD方法已被實用化
057 CVD法制備IC中至關重要的硅系薄膜
058 高清彩色電視用的硅薄膜
059 高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的制作
060 用氣相沉積法制備金屬導體薄膜
061 表面改性法制備氧化薄膜、氮化薄膜
COLUMN 從水（液體）中提取薄膜（固體）
第10章 在液體中制作鍍膜
062 鍍膜技術的發(fā)展
063 液相鍍膜和真空薄膜中的核生長
064 精密鍍膜在電氣領域的應用
COLUMN 用世界上*小的刀進行切削加工
第11章 將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術
065 蝕刻法制備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀
066 用氣體離子進行蝕刻
067 *關鍵的一步——等離子體的制備
068 反應氣體是重要的
069 決定蝕刻的條件
070 利用極細離子束進行故障修理
071 利用CMP進行平坦化處理
072 無CMP的平坦化技術
COLUMN 向偉大的夢想前進！
第12章 薄膜發(fā)展的無限可能性
073 操控原子，制造未來儀器
074 薄膜——帶動世界通信網(wǎng)絡發(fā)展
075 用微動同步器挽救生命
076 生物計算機的使用
參考文獻
譯后記
001 展現(xiàn)繽紛色彩的顏料用微小粉末描繪美麗世界
002 復制美麗——相片彩色相片與數(shù)碼相機
003 薄膜技術使機器人不斷進化利用薄膜材料與計算機進行精密制備
004 創(chuàng)造五種感官視覺、聽覺、嗅覺、味覺與觸覺的創(chuàng)造
005 制造人工智能
006 我們身邊的電子產(chǎn)品都在使用薄膜
007 利用不分解的壓延技術，可以薄到什么程度
008 制造薄膜與制作精細圖案
COLUMN 真空的含義
第2章 制備薄膜的重要環(huán)境條件——真空
009 真空——壓強低于大氣壓的空間狀態(tài)
010 真空的單位與壓強的單位：帕斯卡（Pa）
011 抽出和吸附——真空泵的分類
012 真空的分析和測量真空計
013 真空裝置的制造方法
COLUMN 質量瞬移
第3章 薄膜的制備
014 薄膜的形成——先氣化，再固化沉積
015 四種氣化源
016 單層生長與形核長大薄膜的生長①
017 薄膜內(nèi)部缺陷薄膜的生長②
018 僅有薄膜還不夠薄膜與基板的結合
019 目標：單晶薄膜
COLUMN 出身和教育同樣重要
第4章 薄膜特有的性質
020 薄膜的密度和厚度會隨時間減小
021 薄膜電阻的變化比體材料大
022 熱穩(wěn)定性降低通過時效處理加以克服
COLUMN 薄膜和基板的連接
第5章 增強基板與薄膜結合的技術
023 制膜的基礎：平整的基板
024 前期處理：使基板表面完全裸露
025 前期處理的*后工序：干燥
026 制備附著強度更強的薄膜
027 改變氣化源、增加附著強度
028 薄膜與基板的相合性更為重要
029 著陸點：險峻的山地
030 得到希望的薄膜組成
031 制造用于大面積集成電路的非晶薄膜
032 電遷移斷線及其解決方法
COLUMN 太陽之子——等離子體
第6章 等離子體在薄膜制備中的重要性
033 等離子體的神奇之處及其應用
034 通過放電獲得等離子體
035 低氣壓（良好真空）下的磁控放電
036 產(chǎn)生薄膜用等離子體的五種方法
037 薄膜制備的難題——塵埃
COLUMN 望遠鏡和照相機視場變亮的奧秘
第7章 從古代沿用至今的蒸鍍法
038 蒸發(fā)源
039 加工等厚膜的方法
040 離子鍍的使用
041 進一步發(fā)揮離子的作用
042 防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化激光沉積法
043 制作透明導電的薄膜透明導電薄膜的蒸鍍方法
COLUMN 活學活用
第8章 大面積氣化源、適于批量生產(chǎn)的濺射法
044 濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類決定的
045 濺射產(chǎn)生的原子遵循余弦法則且速度非常快
046 濺射的主要方式
047 以低電壓、定壓（高真空）為目標的磁控濺射
048 支撐半導體IC高集成度發(fā)展的鋁合金濺射
049 利用反應濺射制作高性能電阻膜
050 用濺射法制作氧化物高溫超導膜
051 低電壓下制造透明導電膜（氧化物）ITO
052 薄膜加工的過渡——從平面成膜到微孔成膜
053 利用離子進行超微細孔的填埋
054 向高真空、無氬氣濺射的過渡
COLUMN 神奇的過程——從氣體到薄膜
第9章 由氣體制作薄膜的氣相沉積法
055 氣體向固體的轉變：薄膜的氣相沉積
056 很多的CVD方法已被實用化
057 CVD法制備IC中至關重要的硅系薄膜
058 高清彩色電視用的硅薄膜
059 高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的制作
060 用氣相沉積法制備金屬導體薄膜
061 表面改性法制備氧化薄膜、氮化薄膜
COLUMN 從水（液體）中提取薄膜（固體）
第10章 在液體中制作鍍膜
062 鍍膜技術的發(fā)展
063 液相鍍膜和真空薄膜中的核生長
064 精密鍍膜在電氣領域的應用
COLUMN 用世界上*小的刀進行切削加工
第11章 將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術
065 蝕刻法制備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀
066 用氣體離子進行蝕刻
067 *關鍵的一步——等離子體的制備
068 反應氣體是重要的
069 決定蝕刻的條件
070 利用極細離子束進行故障修理
071 利用CMP進行平坦化處理
072 無CMP的平坦化技術
COLUMN 向偉大的夢想前進！
第12章 薄膜發(fā)展的無限可能性
073 操控原子，制造未來儀器
074 薄膜——帶動世界通信網(wǎng)絡發(fā)展
075 用微動同步器挽救生命
076 生物計算機的使用
參考文獻
譯后記
展開全部
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 作者簡介
（日）麻蒔立男，1934年生于日本愛知縣，1957年靜岡大學工學部電子工學專業(yè)畢業(yè)，同年加入日本電氣株式會社，1967年被調任至日電Valian(現(xiàn)佳能ANELVA株式會社)，1990年至2010年任東京理科大學教授和返聘教授、日本真空協(xié)會個人理事、工學博士。主要著作有《話說真空》、《薄膜制作基礎》、《超微細加工基礎》、《簡明電磁學》、《超微細加工人門》、《簡明薄膜讀本》(日刊工業(yè)出版社)等。譚毅，1993年3月獲東京工業(yè)大學金屬工學博士學位；1997年10月在日本超高溫材料研究所任新能源產(chǎn)業(yè)技術綜合開發(fā)機構研究員；2001年5月任美國加州大學洛杉磯分校材料科學與工程系研究員；2009年9月受聘于大連理工大學，任材料學院教授、能源研究院副院長至今。現(xiàn)從事冶金法提純多晶硅材料、薄膜材料、高溫材料等新能源材料的研究。史蹟，1984年畢業(yè)于大連理工大學金屬材料專業(yè)；1993年赴日本留學；1997年獲東京工業(yè)大學金屬工學博士學位，后任日本國立電氣通信大學量子物質工學助教；2004年任東京工業(yè)大學材料工學副教授至今。現(xiàn)從事金屬物理、功能材料、結構分析等材料科學的研究。
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