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磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能 版權信息
- ISBN：9787517074397
- 條形碼：9787517074397 ; 978-7-5170-7439-7
- 裝幀：一般膠版紙
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>>
磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能 內容簡介
磁控濺射是一種通用、成熟的薄膜制備工藝技術，其制備工藝可調劑參數較多，通過精細控制能夠實現對薄膜結構的有效調控。《磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能》研究了薄膜的工藝參數、薄膜結構與性能等之間的內在關系，探討了薄膜的電子輸運、光學帶隙、熱穩(wěn)定性的有關物理量的變化機制。全書結構合理，條理清晰，內容豐富新穎，可供相關工程技術人員參考使用。
磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能 目錄
前言
第1章 緒論
1．1 薄膜簡介
1．2 薄膜的性質
1．3 薄膜制備技術
1．4 薄膜的表征技術
第2章 氮化銅薄膜研究現狀
2．1 Cu3N薄膜的制備技術
2．2 Cu3N薄膜的晶體結構
2．3 電學和光學性能
2．4 熱、力學性能和耐腐蝕性
2．5 Cu3N薄膜的應用
第3章 氮化銅薄膜的制備
3．1 磁控濺射技術
3．2 JGP-450a型多功能磁控濺射系統(tǒng)
3．3 氮化銅薄膜的制備
第4章 氮化銅薄膜的結構研究
4．1 薄膜的結構分析
4．2 薄膜的表面形貌
4．3 薄膜的組分
4．4 薄膜的晶格常數
第5章 氮化銅的性能研究
5．1 薄膜的電學性能
5．2 薄膜的光學性能
5．3 薄膜的熱穩(wěn)定性研究
第6章 氮化銅的**性原理研究
6．1 概述
6．2 計算方法及過程
6．3 氮化銅的電子結構計算結果
結論與展望
參考文獻
附錄
第1章 緒論
1．1 薄膜簡介
1．2 薄膜的性質
1．3 薄膜制備技術
1．4 薄膜的表征技術
第2章 氮化銅薄膜研究現狀
2．1 Cu3N薄膜的制備技術
2．2 Cu3N薄膜的晶體結構
2．3 電學和光學性能
2．4 熱、力學性能和耐腐蝕性
2．5 Cu3N薄膜的應用
第3章 氮化銅薄膜的制備
3．1 磁控濺射技術
3．2 JGP-450a型多功能磁控濺射系統(tǒng)
3．3 氮化銅薄膜的制備
第4章 氮化銅薄膜的結構研究
4．1 薄膜的結構分析
4．2 薄膜的表面形貌
4．3 薄膜的組分
4．4 薄膜的晶格常數
第5章 氮化銅的性能研究
5．1 薄膜的電學性能
5．2 薄膜的光學性能
5．3 薄膜的熱穩(wěn)定性研究
第6章 氮化銅的**性原理研究
6．1 概述
6．2 計算方法及過程
6．3 氮化銅的電子結構計算結果
結論與展望
參考文獻
附錄
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磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能 作者簡介
肖劍榮，男，1967年生，長沙人，現任教于鄭州航空工業(yè)管理學院，講師。教學經驗豐富，科研成果豐碩，已發(fā)表學術科研論文多篇。
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