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包郵半導體薄膜技術與物理
¥47.0(8折)定價:¥59.0本書全面系統(tǒng)地介紹了半導體薄膜的各種制備技術及其相關的物理基礎，全書共分十一章。第一章概述了真空技術，第二至第八章分別介紹了蒸鍍、濺射、化學氣相沉積、脈沖激光沉積、分子束外延、液相外延、濕化學合成等各種半導體薄膜的沉積技術，第九章介紹了半導體超晶格、量子阱的基本概念和理論，第十章介紹了典型薄膜半導體器件的制備技術，第十一章介紹了溶液法技術及發(fā)光器件的制備。 本書文字敘述上力求做到深入淺出，內(nèi)容上深度和寬度相結(jié)合，理論和實踐相結(jié)
