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納米級CMOS VLSI電路 可制造性設計
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納米級CMOS VLSI電路 可制造性設計 版權信息
- ISBN：9787111782704
- 條形碼：9787111782704 ; 978-7-111-78270-4
- 裝幀：暫無
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：
納米級CMOS VLSI電路 可制造性設計 內容簡介
本書是可制造性設計的詳細指南，提供了經過驗證的、優化電路設計的方法，以提高產品的良率、可靠性和可制造性，并減少缺陷和故障。本書首先介紹了CMOS VLSI設計的趨勢，并簡要介紹了可制造性設計和可靠性設計的基本概念；其次介紹了半導體制造的各種工藝步驟，并探討了工藝與器件偏差以及分辨率增強技術；然后深入研究了半導體制造過程中的各種制造缺陷及其對電路的影響，并討論了可靠性問題的物理機制及其影響；*后探討了在電路實現過程中不同階段采用DFM和DFR方法所帶來的變化。本書不僅適合從事半導體設計的工程師和研究人員閱讀，還可以作為相關專業本科生和研究生的參考教材。
本書涵蓋：
CMOS VLSI設計的當前趨勢
半導體制造技術
光刻
工藝和器件偏差：分析和建模
具有制造感知的物理設計
計量、制造缺陷和缺陷提取
缺陷影響建模和良率改進技術
物理設計和可靠性
DFM工具和方法
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