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表面分析 版權(quán)信息
- ISBN：9787030805508
- 條形碼：9787030805508 ; 978-7-03-080550-8
- 裝幀：平裝
- 冊數(shù)：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>>
表面分析 內(nèi)容簡介
本書詳盡介紹了X射線光電子能譜、俄歇電子能譜、紫外光電子能譜、低能離子散射譜、電子能量損失譜等現(xiàn)代表面分析技術(shù)的基本原理、操作方法、儀器構(gòu)造和數(shù)據(jù)解析，提供了豐富的應用實例，展示了這些技術(shù)在材料科學、催化、生物學等領(lǐng)域的廣泛應用，注重理論與實踐的結(jié)合。本書還介紹了表面分析技術(shù)的高時空分辨率、原位表征等*新發(fā)展趨勢，使讀者能及時掌握表面分析領(lǐng)域的*新動態(tài)，助力國家新質(zhì)生產(chǎn)力的發(fā)展。
表面分析 目錄
目錄前言第1章 緒論 11.1 電子能譜學 11.1.1 電子能譜學的范疇 11.1.2 電子能譜學的基本原理 11.1.3 電子能譜學的應用范圍 11.1.4 電子能譜學的物理基礎(chǔ) 21.1.5 電子能譜學與其他學科的關(guān)系 21.1.6 電子能譜學的發(fā)展基礎(chǔ) 31.2 電子能譜學的研究內(nèi)容 31.3 電子能譜學與表面分析的關(guān)系 41.4 電子能譜學的應用 51.5 電子能譜學的發(fā)展趨勢 61.6 本書的主要內(nèi)容和參考書 6第2章 X射線光電子能譜 72.1 X射線光電子能譜的發(fā)展歷史與特點 72.1.1 X射線光電子能譜的發(fā)展歷史 72.1.2 X射線光電子能譜的特點 82.2 工作原理 82.2.1 X射線光電子能譜的基本原理 82.2.2 電子結(jié)合能原理 182.2.3 化學位移理論 262.2.4 終態(tài)效應及伴峰結(jié)構(gòu) 35第3章 X射線光電子能譜的結(jié)構(gòu)和發(fā)展 543.1 X射線光電子能譜的發(fā)展歷史 543.2 主要構(gòu)成 543.2.1 真空系統(tǒng) 553.2.2 X射線源 563.2.3 X射線的單色化 603.2.4 能量分析器 613.2.5 檢測器 633.2.6 離子束濺射 653.3 XPS的*新發(fā)展 683.3.1 小面積XPS 693.3.2 成像XPS 703.4 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 74參考文獻 116第4章 X射線光電子能譜的分析方法 1194.1 樣品的制備 1194.1.1 樣品的大小 1194.1.2 粉體樣品 1194.1.3 含揮發(fā)性物質(zhì)的樣品 1194.1.4 污染的樣品 1194.1.5 帶磁性的樣品 1204.2 離子濺射技術(shù) 1204.2.1 概述 1204.2.2 離子濺射的影響因素 1204.3 樣品的荷電及消除 1214.3.1 荷電的產(chǎn)生 1214.3.2 荷電的消除 1214.3.3 荷電的校準 1224.4 XPS的定性分析 1224.4.1 XPS定性分析依據(jù) 1224.4.2 XPS定性分析方法 1224.4.3 XPS定性分析的實例 1234.5 XPS的定量分析 1244.5.1 影響譜峰強度的因素 1244.5.2 非彈性散射平均自由程 1274.5.3 XPS的定量計算 1284.5.4 理想模型法 1294.5.5 元素靈敏度因子法 1304.5.6 理論計算值與實測值的相關(guān)性 1314.6 化學價態(tài)分析 1314.7 俄歇參數(shù)法 1324.8 深度剖析方法 1334.8.1 變角XPS分析方法 1334.8.2 Tougaard深度剖析法 1364.8.3 離子束濺射深度分析 1374.9 XPS指紋峰分析 1384.9.1 XPS的攜上峰分析 1394.9.2 XAES分析 1394.9.3 XPS價帶譜分析 1404.9.4 圖像XPS分析 1424.10 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 144參考文獻 183第5章 X射線光電子能譜的應用 1865.1 概述 1865.2 無機物的鑒定 1885.2.1 XPS研究金屬元素的自旋狀態(tài) 1885.2.2 多重分裂研究未成對電子 1895.2.3 氧化態(tài)的研究 1895.2.4 配體的種類 1905.2.5 無機物結(jié)構(gòu)的測定 1905.3 有機物與聚合物的研究 1915.3.1 聚合物成分的分析 1925.3.2 聚合物基團的確定 1935.3.3 表面處理對聚合物表面的影響 1935.4 催化劑的研究 1965.5 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 198參考文獻 232第6章 俄歇電子能譜 2356.1 概述 2356.2 基本原理 2366.2.1 俄歇躍遷及俄歇電子發(fā)射 2366.2.2 俄歇電子的能量分布 2376.2.3 俄歇躍遷過程的種類與表示 2386.2.4 俄歇躍遷概率 2406.2.5 俄歇電子動能 2426.2.6 俄歇電子強度 2436.2.7 俄歇電子能譜表達 2476.2.8 俄歇化學位移 2486.3 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 252參考文獻 287第7章 俄歇電子能譜儀 2907.1 俄歇電子能譜儀的基本結(jié)構(gòu) 2907.1.1 電子源 2907.1.2 能量分析器 2927.2 俄歇電子能譜儀的實驗技術(shù) 2937.2.1 樣品制備技術(shù) 2937.2.2 樣品大小 2937.2.3 粉末樣品 2937.2.4 含有揮發(fā)性物質(zhì)的樣品 2947.2.5 表面有污染的樣品 2947.2.6 帶有微弱磁性的樣品 2957.2.7 離子束濺射技術(shù) 2957.2.8 樣品的荷電問題 2967.2.9 俄歇電子能譜采樣深度 2967.2.10 電子束和X射線激發(fā)的俄歇電子能譜的比較 2977.3 俄歇電子能譜圖的分析技術(shù) 2977.3.1 定性分析 2977.3.2 表面元素的半定量分析 3007.3.3 表面元素的化學價態(tài)分析 3027.3.4 俄歇深度分析 3077.3.5 微區(qū)分析 309第8章 俄歇電子能譜的應用 3158.1 固體表面清潔度的測定 3158.2 表面吸附和化學反應的研究 3158.2.1 表面吸附的研究 3168.2.2 表面吸附過程 3178.3 薄膜的研究 3188.3.1 薄膜厚度的測定 3188.3.2 薄膜界面的擴散反應研究 3188.3.3 薄膜制備的研究 3218.3.4 薄膜催化劑的研究 3238.4 離子注入研究 3278.5 表面偏析研究 3298.6 固體化學反應研究 3318.7 表面擴散研究 3338.8 摩擦化學研究 3348.9 核材料研究 3368.10 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 337參考文獻 374第9章 紫外光電子能譜 3779.1 概述 3779.2 基本原理 3779.3 非鍵或弱鍵電子峰的化學位移 3839.4 紫外光電子能譜的解釋 3849.4.1 嚴格的方法 3849.4.2 簡化的方法 3859.4.3 譜帶的形狀和位置 3859.4.4 電子接受或授予效應 3879.4.5 軌道的相互作用 3899.5 紫外光電子能譜儀 3919.6 實驗技術(shù) 3949.6.1 樣品的制備和引入 3949.6.2 譜的校正 3959.7 紫外光電子能譜的應用 3969.7.1 測量電離電位 3979.7.2 研究化學鍵 3979.7.3 測定分子結(jié)構(gòu) 3999.7.4 定性分析 3999.7.5 定量分析 4019.7.6 固體表面的吸附作用 4029.7.7 固體表面電子結(jié)構(gòu) 4039.7.8 儲氫材料的研究 4049.8 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 405參考文獻 437第10章 低能離子散射譜 44010.1 概述 44010.2 LEIS和RBS的比較 44110.3 LEIS的工作原理 44110.4 散射產(chǎn)額 44310.5 陰影效應 44410.6 荷電效應 44610.7 離子中和效應 44710.8 LEIS裝置 44910.8.1 離子源 45010.8.2 真空系統(tǒng)和散射室 45110.8.3 能量分析器 45210.9 LEIS儀器操作要點 45210.9.1 入射離子及其能量的選擇 45210.9.2 角度的選擇 45310.9.3 質(zhì)量分辨率 45410.9.4 定量分析 45410.9.5 低能背景 45410.9.6 多重散射和溝道效應 45510.10 進展 45510.11 應用 45610.11.1 表面定性分析 45610.11.2 表面成分分析 45710.11.3 表面結(jié)構(gòu)分析 45810.11.4 二次散射和多次散射、表面缺陷分析 45810.11.5 研究熱電子陰極激活過程 45910.11.6 LEIS研究Ni3Ti合金 46010.11.7 Cu-Zn催化劑的研究 46110.11.8 LEIS測定負載型催化劑中活性組分與載體之間的相互作用 46210.12 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 463參考文獻 502第11章 電子能量損失譜 50511.1 概述 50511.2 電子能量損失譜的定義及特點 50511.2.1 電子能量損失譜的定義 50511.2.2 電子能量損失譜的特點 50611.3 電子能量損失譜的原理 50611.3.1 入射電子與試樣相互作用過程 50611.3.2 電子能量損失過程 50711.4 電子能量損失譜的工作原理 50911.5 非彈性散射理論簡介 50911.5.1 電子能量損失譜的基本公式 51011.5.2 **的介電理論 51011.5.3 量子力學的介電理論 51211.6 低能電子能量損失譜的實驗裝置 51211.7 高分辨電子能量損失譜和表面振動研究 51311.7.1 晶體清潔表面的聲子能量損失譜 51311.7.2 吸附表面的聲子能量損失譜 51511.8 電子能量損失譜的應用 51811.8.1 吸附位的研究 51911.8.2 分析雙原子分子在金屬表面的分解反應 52011.8.3 甲醇分解研究 52111.8.4 氧化過程的研究 52211.9 應用舉例和數(shù)據(jù)分析 523參考文獻 557
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