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聚焦離子束:應用與實踐 版權信息
- ISBN：9787305274091
- 條形碼：9787305274091 ; 978-7-305-27409-1
- 裝幀：平裝-膠訂
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>
聚焦離子束:應用與實踐 內容簡介
聚焦離子束（FocusedIonBeam，FIB）是微納加工、芯片失效分析、微結構科學研究的核心技術裝備之一。隨著材料、器件的微尺度化（納米甚至原子尺度）、高集成化（每平方厘米集成10億個以上的功能單元）、多功能化（在多種外場條件下工作），越來越多的材料微結構研究、器件研發須使用聚焦離子束。全書共分七章，從聚焦離子束的結構原理出發，緊密結合應用與實踐，對聚焦離子束誘導沉積、濺射刻蝕、離子注入、離子束曝光、聯合使用模式以及樣品的前期處理進行闡述，并配有實際案例進行進一步詳解。
聚焦離子束:應用與實踐 目錄
**章 聚焦離子束原理
1.1聚焦離子束的基本結構
1.1.1聚焦離子束的系統的分類
1.1.2離子槍的結構
1.1.3雙束設備樣品室布局與工作臺
1.2離子束與材料的作用及離子束加工基本功能原理
1.2.1離子束與材料的作用
1.2.2聚焦離子束的主要功能
第二章 聚焦離子束誘導沉積
2.1FIB中的電子束與離子束誘導沉積
2.1.1電子束誘導沉積原理和技術特點
2.1.2離子束誘導沉積原理和技術特點
2.1.3離子束與電子束沉積的參數選擇
2.2沉積層的電學特性
2.2.1離子束誘導沉積層的電學特性
2.2.2電子束誘導沉積保護層的電學特性
……
展開全部
聚焦離子束:應用與實踐 作者簡介
鄧昱，南京大學現代工程與應用科學學院博士生導師，亞原子電子顯微鏡中心主任，中國分析測試協會青年委員會副主任委員，美國勞倫斯伯克利國家實驗室、國家電子顯微鏡中心訪問教授。
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