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薄膜生長技術 版權信息
- ISBN：9787030766335
- 條形碼：9787030766335 ; 978-7-03-076633-5
- 裝幀：平裝膠訂
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>>
薄膜生長技術 內容簡介
本書主要論述了薄膜物理與薄膜生長技術的基本內容，系統地介紹了薄膜的生長形成、物理化學制備原理與方法，包括真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子束鍍膜、化學氣相沉積、脈沖激光分子束外延等。此外，本書結合近期新研究進展，綜述了氧化物界面性能及制備方法，并以氧化物界面二維電子為例引入本領域國內外近期新研究成果。本書內容豐富，主要介紹了薄膜的生長原理及物理和化學生長技術，兼顧理論與實際，具有良好的系統性、綜合性和實用性，并以氧化物界面二維電子為例引入本領域國內外近期新研究成果。
薄膜生長技術 目錄
前言
第1章 薄膜的形成與生長
1.1 概述
1.2 凝結與表面擴散
1.2.1 吸附
1.2.2 表面擴散
1.2.3 凝結過程
1.3 晶核的形成與生長
1.3.1 物理過程
1.3.2 實驗觀察
1.3.3 熱學界面能理論
1.3.4 原子聚集理論
1.4 薄膜生長模式
1.4.1 薄膜生長原理
1.4.2 薄膜形成過程
1.4.3 薄膜生長的三種模式
1.5 薄膜的結構與缺陷
1.5.1 薄膜生長的晶帶模型
1.5.2 纖維狀生長模型
1.5.3 薄膜的缺陷
1.5.4 外延薄膜的生長
1.6 本章小結
習題
參考文獻
第2章 真空蒸發鍍膜
2.1 真空蒸發鍍膜原理
2.1.1 概述
2.1.2 飽和蒸氣壓
2.1.3 蒸發粒子的速度與能量
2.1.4 蒸發速率與沉積速率
2.1.5 厚度分布
2.2 蒸發源特性
2.2.1 加熱方式
2.2.2 蒸發特性
2.2.3 基板配置
2.2.4 合金及化合物的蒸發
2.3 本章小結
習題
參考文獻
第3章 濺射鍍膜
3.1 濺射原理
3.1.1 概述
3.1.2 輝光放電
3.1.3 基本概念
3.1.4 濺射過程與濺射機制
3.2 濺射方式
3.2.1 二極濺射
3.2.2 偏壓濺射
3.2.3 三極濺射和四極濺射
3.2.4 射頻濺射
3.2.5 磁控濺射
3.2.6 ECR濺射
3.2.7 對向靶濺射
3.2.8 反應濺射
3.2.9 零氣壓濺射
3.2.10 自濺射
3.2.11 離子束濺射
3.3 濺射鍍膜的厚度均勻性分析
3.3.1 二極濺射的膜厚均勻性分析
3.3.2 磁控濺射的膜厚均勻性分析
3.4 濺射鍍膜與真空蒸發鍍膜的比較
3.5 本章小結
習題
參考文獻
第4章 離子束鍍膜
4.1 離子鍍原理
4.2 離子鍍對鍍膜的影響
4.2.1 離化率
4.2.2 沉積前離子轟擊的效果
4.2.3 離子轟擊對薄膜生長的影響
4.2.4 離子轟擊對基體和鍍層交界面的影響
4.2.5 離子鍍的蒸發源
4.3 離子鍍的類型及特點
4.3.1 直流二極型離子鍍
4.3.2 三極型和多陰極方式的離子鍍
4.3.3 多弧離子鍍
4.3.4 活性反應離子鍍
4.3.5 空心陰極放電離子鍍
4.4 本章小結
習題
參考文獻
第5章 化學氣相沉積
5.1 概述
5.2 基本原理
5.2.1 沉積過程
5.2.2 反應類型
5.2.3 特點及應用
5.3 化學氣相沉積類型
5.3.1 熱化學氣相沉積
5.3.2 等離子體化學氣相沉積
5.3.3 光化學氣相沉積
5.3.4 金屬有機化學氣相沉積
5.3.5 金屬化學氣相沉積
5.4 本章小結
習題
參考文獻
第6章 脈沖激光分子束外延法
6.1 概述
6.1.1 方法簡介
6.1.2 方法特點
6.2 沉積過程及原理
6.2.1 沉積過程
6.2.2 沉積原理
6.3 影響薄膜質量的因素
6.3.1 偏軸、靶基距的影響
6.3.2 激光參數的影響
6.3.3 襯底材料的影響
6.3.4 襯底溫度的影響
6.3.5 沉積氣氛及壓強的影響
6.3.6 清洗工藝的影響
6.3.7 表面活性劑的影響
6.3.8 PLD鍍膜實例
6.4 激光鍍膜技術的發展與應用前景
6.4.1 激光鍍膜技術的發展
6.4.2 激光鍍膜技術的應用前景
6.5 本章小結
習題
參考文獻
展開全部
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