中圖網(wǎng)小程序
一鍵登錄
更方便
本類五星書更多>
-
>
宇宙、量子和人類心靈
-
>
氣候文明史
-
>
南極100天
-
>
考研數(shù)學(xué)專題練1200題
-
>
希格斯:“上帝粒子”的發(fā)明與發(fā)現(xiàn)
-
>
神農(nóng)架疊層石:10多億年前遠(yuǎn)古海洋微生物建造的大堡礁
-
>
聲音簡(jiǎn)史
中圖價(jià):¥82.6
加入購(gòu)物車
薄膜生長(zhǎng)技術(shù) 版權(quán)信息
- ISBN：9787030766335
- 條形碼：9787030766335 ; 978-7-03-076633-5
- 裝幀：平裝膠訂
- 冊(cè)數(shù)：暫無(wú)
- 重量：暫無(wú)
- 所屬分類：>>
薄膜生長(zhǎng)技術(shù) 內(nèi)容簡(jiǎn)介
本書主要論述了薄膜物理與薄膜生長(zhǎng)技術(shù)的基本內(nèi)容，系統(tǒng)地介紹了薄膜的生長(zhǎng)形成、物理化學(xué)制備原理與方法，包括真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子束鍍膜、化學(xué)氣相沉積、脈沖激光分子束外延等。此外，本書結(jié)合近期新研究進(jìn)展，綜述了氧化物界面性能及制備方法，并以氧化物界面二維電子為例引入本領(lǐng)域國(guó)內(nèi)外近期新研究成果。本書內(nèi)容豐富，主要介紹了薄膜的生長(zhǎng)原理及物理和化學(xué)生長(zhǎng)技術(shù)，兼顧理論與實(shí)際，具有良好的系統(tǒng)性、綜合性和實(shí)用性，并以氧化物界面二維電子為例引入本領(lǐng)域國(guó)內(nèi)外近期新研究成果。
薄膜生長(zhǎng)技術(shù) 目錄
前言
第1章 薄膜的形成與生長(zhǎng)
1.1 概述
1.2 凝結(jié)與表面擴(kuò)散
1.2.1 吸附
1.2.2 表面擴(kuò)散
1.2.3 凝結(jié)過(guò)程
1.3 晶核的形成與生長(zhǎng)
1.3.1 物理過(guò)程
1.3.2 實(shí)驗(yàn)觀察
1.3.3 熱學(xué)界面能理論
1.3.4 原子聚集理論
1.4 薄膜生長(zhǎng)模式
1.4.1 薄膜生長(zhǎng)原理
1.4.2 薄膜形成過(guò)程
1.4.3 薄膜生長(zhǎng)的三種模式
1.5 薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷
1.5.1 薄膜生長(zhǎng)的晶帶模型
1.5.2 纖維狀生長(zhǎng)模型
1.5.3 薄膜的缺陷
1.5.4 外延薄膜的生長(zhǎng)
1.6 本章小結(jié)
習(xí)題
參考文獻(xiàn)
第2章 真空蒸發(fā)鍍膜
2.1 真空蒸發(fā)鍍膜原理
2.1.1 概述
2.1.2 飽和蒸氣壓
2.1.3 蒸發(fā)粒子的速度與能量
2.1.4 蒸發(fā)速率與沉積速率
2.1.5 厚度分布
2.2 蒸發(fā)源特性
2.2.1 加熱方式
2.2.2 蒸發(fā)特性
2.2.3 基板配置
2.2.4 合金及化合物的蒸發(fā)
2.3 本章小結(jié)
習(xí)題
參考文獻(xiàn)
第3章 濺射鍍膜
3.1 濺射原理
3.1.1 概述
3.1.2 輝光放電
3.1.3 基本概念
3.1.4 濺射過(guò)程與濺射機(jī)制
3.2 濺射方式
3.2.1 二極濺射
3.2.2 偏壓濺射
3.2.3 三極濺射和四極濺射
3.2.4 射頻濺射
3.2.5 磁控濺射
3.2.6 ECR濺射
3.2.7 對(duì)向靶濺射
3.2.8 反應(yīng)濺射
3.2.9 零氣壓濺射
3.2.10 自濺射
3.2.11 離子束濺射
3.3 濺射鍍膜的厚度均勻性分析
3.3.1 二極濺射的膜厚均勻性分析
3.3.2 磁控濺射的膜厚均勻性分析
3.4 濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜的比較
3.5 本章小結(jié)
習(xí)題
參考文獻(xiàn)
第4章 離子束鍍膜
4.1 離子鍍?cè)?
4.2 離子鍍對(duì)鍍膜的影響
4.2.1 離化率
4.2.2 沉積前離子轟擊的效果
4.2.3 離子轟擊對(duì)薄膜生長(zhǎng)的影響
4.2.4 離子轟擊對(duì)基體和鍍層交界面的影響
4.2.5 離子鍍的蒸發(fā)源
4.3 離子鍍的類型及特點(diǎn)
4.3.1 直流二極型離子鍍
4.3.2 三極型和多陰極方式的離子鍍
4.3.3 多弧離子鍍
4.3.4 活性反應(yīng)離子鍍
4.3.5 空心陰極放電離子鍍
4.4 本章小結(jié)
習(xí)題
參考文獻(xiàn)
第5章 化學(xué)氣相沉積
5.1 概述
5.2 基本原理
5.2.1 沉積過(guò)程
5.2.2 反應(yīng)類型
5.2.3 特點(diǎn)及應(yīng)用
5.3 化學(xué)氣相沉積類型
5.3.1 熱化學(xué)氣相沉積
5.3.2 等離子體化學(xué)氣相沉積
5.3.3 光化學(xué)氣相沉積
5.3.4 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積
5.3.5 金屬化學(xué)氣相沉積
5.4 本章小結(jié)
習(xí)題
參考文獻(xiàn)
第6章 脈沖激光分子束外延法
6.1 概述
6.1.1 方法簡(jiǎn)介
6.1.2 方法特點(diǎn)
6.2 沉積過(guò)程及原理
6.2.1 沉積過(guò)程
6.2.2 沉積原理
6.3 影響薄膜質(zhì)量的因素
6.3.1 偏軸、靶基距的影響
6.3.2 激光參數(shù)的影響
6.3.3 襯底材料的影響
6.3.4 襯底溫度的影響
6.3.5 沉積氣氛及壓強(qiáng)的影響
6.3.6 清洗工藝的影響
6.3.7 表面活性劑的影響
6.3.8 PLD鍍膜實(shí)例
6.4 激光鍍膜技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用前景
6.4.1 激光鍍膜技術(shù)的發(fā)展
6.4.2 激光鍍膜技術(shù)的應(yīng)用前景
6.5 本章小結(jié)
習(xí)題
參考文獻(xiàn)
展開全部
書友推薦
- >
山海經(jīng)
- >
二體千字文
- >
伊索寓言-世界文學(xué)名著典藏-全譯本
- >
羅曼·羅蘭讀書隨筆-精裝
- >
月亮虎
- >
唐代進(jìn)士錄
- >
名家?guī)阕x魯迅:故事新編
- >
推拿
本類暢銷
