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光學元件磁流變拋光理論與關鍵技術 版權信息
- ISBN：9787118129977
- 條形碼：9787118129977 ; 978-7-118-12997-7
- 裝幀：平裝-膠訂
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>>
光學元件磁流變拋光理論與關鍵技術 內容簡介
本書介紹了光學元件磁流變拋光理論與關鍵工藝，尤其重點介紹了離軸非球面光學元件磁流變拋光關鍵技術。**章～第六章側重介紹磁流變拋光的理論和工藝研究，主要針對高精度光學鏡面磁流變拋光過程中的去除函數多參數模型、表面與亞表面質量控制、駐留時間高精度求解與實現、修形工藝優化方法等關鍵問題進行深入研究和實驗驗證；第七章～第十二章以離軸非球面光學零件的高精高效制造為需求牽引，針對離軸非球面磁流變拋光過程中的關鍵理論和工藝問題開展研究，旨在實現面形誤差和特征量參數雙重約束條件下的離軸非球面光學零件的磁流變拋光，形成基于磁流變拋光技術的加工工藝路線，從而進一步提高我國離軸非球面光學零件的制造水平。
光學元件磁流變拋光理論與關鍵技術 目錄
第1章 緒論
1．1 研究背景和意義
1．1．1 高精度光學鏡面的需求
1．1．2 高精度光學鏡面拋光方法
1．1．3 本書研究的意義
1．2 磁流變拋光國內外研究現狀
1．2．1 磁流變拋光技術發展過程
1．2．2 磁流變拋光技術國內外發展現狀
1．2．3 磁流變拋光關鍵技術與研究熱點
1．3 主要研究內容
第2章 磁流變拋光系統
2．1 計算機控制光學表面成形原理
2．1．1 計算機控制光學表面成形的理論基礎
2．1．2 計算機控制光學表面成形工藝對磁流變拋光系統的基本要求
2．2 KDMRF-1000F系統組成與性能分析
2．2．1 系統組成及主要性能
2．2．2 多軸運動系統性能分析
2．2．3 循環控制系統性能分析
2．2．4 磁流變液配制與性能分析
第3章 磁流變拋光區域流體動力學分析與計算
3．1 Bingham流體動力學基本方程
3．2 拋光區域磁流變液成核狀態分析
3．3 實驗驗證
第4章 磁流變拋光表面與亞表面質量實驗分析
4．1 磁流變拋光表面質量實驗分析
4．1．1 磁流變拋光表面質量影響因素分析
4．1．2 常見光學材料磁流變拋光表面粗糙度
4．2 磁流變拋光亞表面損傷實驗分析
4．2．1 磁流變消除磨削亞表面裂紋層實驗分析
4．2．2 磁流變消除傳統拋光亞表面損傷實驗分析
第5章 磁流變修形駐留時間高精度求解與實現
5．1 磁流變修形過程評價指標
5．2 磁流變修形駐留時間求解算法
5．2．1 線性方程組模型
5．2．2 加權非負廣義*小殘差算法
5．2．3 駐留時間求解仿真分析
5．3 基于運動系統動態性能的駐留時間實現方法
5．4 駐留時間求解與實現的聯合優化
5．5 駐留時間求解與實現的實驗驗證
5．5．1 線性掃描加工路徑
5．5．2 極軸掃描加工路徑
5．6 基于熵增原理抑制磁流變修形中高頻誤差
5．6．1 基于熵增原理的局部隨機加工路徑
5．6．2 實驗驗證
……
第6章 高精度光學鏡面磁流變拋光試驗
第7章 離軸非球面加工技術簡介
第8章 離軸非球面修形理論
第9章 去除函數多參數建模與實驗分析
第10章 離軸非球面修形工藝
第11章 特征量參數測量與控制
第12章 加工工藝路線優化及加工實例
參考文獻
1．1 研究背景和意義
1．1．1 高精度光學鏡面的需求
1．1．2 高精度光學鏡面拋光方法
1．1．3 本書研究的意義
1．2 磁流變拋光國內外研究現狀
1．2．1 磁流變拋光技術發展過程
1．2．2 磁流變拋光技術國內外發展現狀
1．2．3 磁流變拋光關鍵技術與研究熱點
1．3 主要研究內容
第2章 磁流變拋光系統
2．1 計算機控制光學表面成形原理
2．1．1 計算機控制光學表面成形的理論基礎
2．1．2 計算機控制光學表面成形工藝對磁流變拋光系統的基本要求
2．2 KDMRF-1000F系統組成與性能分析
2．2．1 系統組成及主要性能
2．2．2 多軸運動系統性能分析
2．2．3 循環控制系統性能分析
2．2．4 磁流變液配制與性能分析
第3章 磁流變拋光區域流體動力學分析與計算
3．1 Bingham流體動力學基本方程
3．2 拋光區域磁流變液成核狀態分析
3．3 實驗驗證
第4章 磁流變拋光表面與亞表面質量實驗分析
4．1 磁流變拋光表面質量實驗分析
4．1．1 磁流變拋光表面質量影響因素分析
4．1．2 常見光學材料磁流變拋光表面粗糙度
4．2 磁流變拋光亞表面損傷實驗分析
4．2．1 磁流變消除磨削亞表面裂紋層實驗分析
4．2．2 磁流變消除傳統拋光亞表面損傷實驗分析
第5章 磁流變修形駐留時間高精度求解與實現
5．1 磁流變修形過程評價指標
5．2 磁流變修形駐留時間求解算法
5．2．1 線性方程組模型
5．2．2 加權非負廣義*小殘差算法
5．2．3 駐留時間求解仿真分析
5．3 基于運動系統動態性能的駐留時間實現方法
5．4 駐留時間求解與實現的聯合優化
5．5 駐留時間求解與實現的實驗驗證
5．5．1 線性掃描加工路徑
5．5．2 極軸掃描加工路徑
5．6 基于熵增原理抑制磁流變修形中高頻誤差
5．6．1 基于熵增原理的局部隨機加工路徑
5．6．2 實驗驗證
……
第6章 高精度光學鏡面磁流變拋光試驗
第7章 離軸非球面加工技術簡介
第8章 離軸非球面修形理論
第9章 去除函數多參數建模與實驗分析
第10章 離軸非球面修形工藝
第11章 特征量參數測量與控制
第12章 加工工藝路線優化及加工實例
參考文獻
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光學元件磁流變拋光理論與關鍵技術 作者簡介
石峰，國防科技大學智能科學學院，研究員。獲 技術發明二等獎1項，軍隊科技進步一等獎1項，授權發明專利30項；發表學術論文40篇，其中SCI檢索17篇、EI檢索15篇，出版專著4部。學校青年拔尖人才培養對象，軍隊 專業技術人才三類崗。宋辭，國防科技大學智能科學學院，副研究員，長期從事 光學制造裝備與工藝研究。發表SCI論文10余篇，EI論文20余篇，授權發明專利8項，獲軍隊科技進步一等獎1項。
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