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表面科學與薄膜技術基礎 版權信息
- ISBN：9787030731289
- 條形碼：9787030731289 ; 978-7-03-073128-9
- 裝幀：一般膠版紙
- 冊數(shù)：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>
表面科學與薄膜技術基礎 本書特色
本書可供化學工程、工業(yè)催化、材料科學等相關專業(yè)高校師生及相關研究人員參考學習。
表面科學與薄膜技術基礎 內容簡介
一。薄膜動力學理論二、表面科學基礎三、薄膜物理基礎四、熱蒸發(fā)沉積五、濺射渡膜六、化學氣象沉積七、薄膜結構八、現(xiàn)代表面分析技術九、薄膜材料。本書可供化學工程、工業(yè)催化、材料科學等相關專業(yè)高校師生及相關研究人員參考學習。
表面科學與薄膜技術基礎 目錄
目錄前言第1章 真空物理基礎 11.1 真空基礎知識 11.2 氣體動力學理論 31.3 真空獲得 101.4 真空測量 191.5 真空系統(tǒng) 251.6 本章小結 26習題 27參考文獻 28第2章 表面科學基礎 292.1 表面和體材料 292.2 表面重構 332.3 表面結構缺陷 372.4 表面張力和表面能 402.5 表面吸附 432.6 表面電子結構 492.7 本章小結 52習題 52參考文獻 52第3章 薄膜物理基礎 533.1 薄膜生長模式 533.2 形核的熱力學模型 553.3 形核和生長的動力學過程 613.4 團簇的聚結與耗盡 623.5 形核與生長的實驗研究 653.6 本章小結 68習題 69參考文獻 69第4章 熱蒸發(fā)沉積 704.1 蒸發(fā)的物理化學特性 704.2 薄膜厚度均勻性和純度 764.3 熱蒸發(fā)硬件 824.4 熱蒸發(fā)技術的應用 854.5 本章小結 87習題 88參考文獻 88第5章 濺射鍍膜 895.1 等離子體和湯森放電 905.2 等離子體中的反應 945.3 濺射物理 985.4 濺射沉積薄膜過程 1035.5 本章小結 108習題 108參考文獻 108第6章 化學氣相沉積 1096.1 反應類型 1106.2 CVD熱力學 1136.3 氣體輸運 1146.4 熱CVD工藝 1186.5 等離子體CVD工藝 1206.6 激光CVD工藝 1226.7 金屬有機CVD工藝 1236.8 本章小結 124習題 124參考文獻 125第7章 薄膜結構 1267.1 薄膜結構演化 1267.2 熱蒸發(fā)沉積薄膜結構和形貌 1297.3 濺射鍍膜薄膜結構和形貌 1337.4 CVD薄膜結構和形貌 1367.5 本章小結 137習題 138參考文獻 138第8章 現(xiàn)代表面分析技術 1398.1 X射線光電子能譜 1398.2 紫外光電子能譜 1498.3 X射線衍射和低能電子衍射 1528.4 掃描隧道顯微鏡和原子力顯微鏡 1568.5 振動譜 1598.6 本章小結 164習題 164參考文獻 165第9章 薄膜材料 1669.1 金剛石薄膜 1669.2 超硬薄膜 1739.3 半導體薄膜 1789.4 磁性存儲薄膜 181習題 184參考文獻 184
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