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薄膜光學(xué)原理與技術(shù) 版權(quán)信息
- ISBN：9787564648114
- 條形碼：9787564648114 ; 978-7-5646-4811-4
- 裝幀：一般膠版紙
- 冊數(shù)：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>
薄膜光學(xué)原理與技術(shù) 內(nèi)容簡介
本書共分七章, 內(nèi)容包括: 薄膜光學(xué)概述、薄膜光學(xué)電磁理論基礎(chǔ)、薄膜光學(xué)特性計算方法、常用的光學(xué)薄膜系統(tǒng)、薄膜制備技術(shù)、薄膜生長與薄膜結(jié)構(gòu)等。
薄膜光學(xué)原理與技術(shù) 目錄
第1章 薄膜光學(xué)概述
1.1 光學(xué)薄膜的概念與功能
1.2 薄膜光學(xué)發(fā)展史簡介
1.3 薄膜干涉的特點
1.4 光學(xué)薄膜的基本假定與表示
思考題與習(xí)題
第2章 薄膜光學(xué)電磁理論基礎(chǔ)
2.1 麥克斯韋方程組
2.2 平面電磁波
2.3 麥克斯韋方程組的邊界條件
2.4 菲涅耳公式
2.5 單一界面上的反射率和透射率
思考題與習(xí)題
第3章 薄膜光學(xué)特性計算方法
3.1 遞推法
3.2 矩陣法
3.3 矢量作圖法
3.4 單層介質(zhì)膜的光學(xué)特性
思考題與習(xí)題
第4章 常用的光學(xué)薄膜系統(tǒng)
4.1 減反射膜
4.2 高反射膜
4.3 分束鏡
4.4 截止濾光片
思考題與習(xí)題
第5章 薄膜制備技術(shù)
5.1 真空技術(shù)基礎(chǔ)
5.2 真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)
5.3 濺射鍍膜技術(shù)
5.4 離子鍍
5.5 脈沖激光沉積技術(shù)
5.6 薄膜厚度的均勻性
5.7 薄膜厚度的監(jiān)控
思考題與習(xí)題
第6章 薄膜生長與薄膜結(jié)構(gòu)
6.1 吸附、表面擴散與凝結(jié)
6.2 核的形成與生長過程
6.3 連續(xù)薄膜的形成與生長
6.4 薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷
思考題與習(xí)題
第7章 光學(xué)薄膜特性測試與分析
7.1 薄膜透射率和反射率的測量
7.2 薄膜光學(xué)常數(shù)和厚度的測量
7.3 薄膜吸收和散射的測量
思考題與習(xí)題
參考文獻(xiàn)
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