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微電子制造技術實驗教程 版權信息
- ISBN：9787030444943
- 條形碼：9787030444943 ; 978-7-03-044494-3
- 裝幀：一般膠版紙
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>>
微電子制造技術實驗教程 本書特色
由王姝婭、戴麗萍、鐘志親、王剛、杜江鋒編* 的《微電子制造技術實驗教程》是面向微電子及相關 專業的實驗教程，以微電子器件制造過程為主線，重 點闡述學生在微電子制造技術學習中必須掌握的基礎 知識和實驗方法。第1、2章介紹清洗、氧化、擴散、 離子注入、光刻、刻蝕、沉積等相關制造工藝的基礎 知識和基礎實驗，詳細闡述各項單步工藝的實驗原理 、實驗設備、實驗方法和步驟。第3章介紹微電子器 件制造過程中的物理性能測試實驗和電學性能測試實 驗。第4章介紹二極管、肖特基二極管、三極管、 cmos管、集成電阻器等器件的制造以及集成運算放大 器的參數測試、邏輯ic功能和參數的測試兩個綜合實 驗。全書共28個實驗項目，各實驗相對獨立，不同學 校可根據實際實驗條件選用。 本書可作為高等院校微電子及相關專業的實驗教 材，也可作為教師和一般微電子制造工程技術人員的 參考資料。
微電子制造技術實驗教程 內容簡介
本教材《微電子制造技術實驗教材》是針對微電子相關專業的本科生的實驗動手能力培養而編寫的。本書涵蓋了所有微電子制造及集成的基礎知識和基礎實驗。包括硅片清洗、氧化、擴散、離子注入、光刻、濕法及干法刻蝕、薄膜沉積、物理測試、化學測試等基礎知識和實驗，同時介紹了二級管、三極管、電阻器、CMOS管等器件制造的綜合性實驗。本書的重點在于培養學生的動手能力，注重實驗的操作。
微電子制造技術實驗教程 目錄
第1章 基礎知識 1.1 硅片 1.2 清洗 1.3 氧化 1.4 擴散 1.5 離子注入 1.6 光刻 1.7 刻蝕 1.8 化學氣相沉積 1.8 apcvd 1.8 lpcvd 1.8 pecvd 1.9 物理氣相沉積 1.9.1 蒸發 1.9.2 磁控濺射第2章 基礎工藝實驗 2.1 清洗工藝實驗 2.1.1 實驗目的 2.1.2 實驗原理 2.1.3 實驗內容 2.1.4 實驗設備與器材 2.1.5 實驗步驟 2.1.6 注意事項 2.1.7 思考題 2.2 氧化工藝實驗 2.2.1 實驗目的 2.2.2 實驗原理 2.2.3 實驗內容 2.2.4 實驗設備與器材 2.2.5 實驗步驟 2.2.6 注意事項 2.2.7 思考題 2.3 擴散工藝實驗 2.3.1 實驗目的 2.3.2 實驗原理 2.3.3 實驗內容 2.3.4 實驗設備與器材 2.3.5 實驗步驟 2.3.6 注意事項 2.3.7 思考題 2.4 離子注入實驗 2.4.1 實驗目的 2.4.2 實驗原理 2.4.3 實驗內容 2.4.4 實驗設備與器材 2.4.5 實驗步驟 2.4.6 注意事項 2.4.7 思考題 2.5 光刻實驗 2.5.1 實驗目的 2.5.2 實驗原理 2.5.3 實驗內容 2.5.4 實驗設備與器材 2.5.5 實驗步驟 2.5.6 注意事項 2.5.7 思考題 2.6 濕法刻蝕工藝實驗 2.6.1 硅刻蝕 2.6.2 濕法刻蝕實驗 2.6.3 氮化硅的刻蝕 2.6.4 鋁刻蝕 2.7 干法刻蝕實驗 2.7.1 實驗目的 2.7.2 實驗原理 2.7.3 實驗內容 2.7.4 實驗設備與器材 2.7.5 實驗步驟 2.7.6 注意事項 2.7.7 思考題 2.8 化學氣相沉積實驗 2.8.1 lpcvd制備si3n4、sio2薄膜及非晶硅薄膜 2.8.2 pecvd制備si3n4、sio2薄膜及非晶硅薄膜 2.9 金屬薄膜制備實驗 2.9.1 電子束蒸發工藝實驗 2.9.2 磁控濺射工藝實驗 2.10 金屬剝離工藝實驗 2.10.1 實驗目的 2.10.2 實驗原理 2.10.3 實驗內容 2.10.4 實驗設備與器材 2.10.5 實驗步驟 2.10.6 注意事項 2.10.7 思考題第3章 基礎測試實驗 3.1 物理性能測試實驗 3.1.1 sio2厚度測試實驗 3.1.2 方塊電阻的測量實驗 3.1.3 結深的測量實驗 3.2 電學性能測試 3.2.1 晶圓級二極管性能測試實驗 3.2.2 晶圓級雙極型晶體管性能測試實驗 3.2.3 晶圓級mos管性能測試實驗第4章 微電子制造綜合實驗 4.1 二極管制造實驗 4.1.1 實驗目的 4.1.2 實驗原理 4.1.3 實驗內容 4.1.4 實驗設備與器材 4.1.5 實驗步驟 4.1.6 實驗注意事項 4.1.7 思考題 4.2 肖特基二極管制造試驗 4.2.1 實驗目的 4.2.2 實驗原理 4.2.3 實驗內容 4.2.4 實驗設備與器材 4.2.5 實驗步驟 4.2.6 實驗注意事項 4.2.7 思考題 4.3 三極管制造實驗 4.3.1 實驗目的 4.3.2 實驗原理 4.3.3 實驗內容 4.3.4 實驗設備與器材 4.3.5 實驗步驟 4.3.6 實驗注意事項 4.3.7 思考題 4.4 cmos管制造實驗 4.4.1 實驗目的 4.4.2 實驗原理 4.4.3 實驗內容 4.4.4 實驗設備與器材 4.4.5 實驗步驟 4.4.6 實驗注意事項 4.4.7 思考題 4.5 集成電阻器制造實驗 4.5.1 實驗目的 4.5.2 實驗原理 4.5.3 實驗內容 4.5.4 實驗設備與器材 4.5.5 實驗步驟 4.5.6 實驗注意事項 4.5.7 思考題 4.6 集成運算放大器參數測試實驗 4.6.1 實驗目的 4.6.2 實驗原理 4.6.3 實驗內容 4.6.4 實驗設備與器材 4.6.5 實驗步驟 4.6.6 思考題 4.7 邏輯ic功能和參數測試實驗 4.7.1 實驗目的 4.7.2 實驗原理 4.7.3 實驗內容 4.7.4 實驗設備與器材 4.7.5 實驗步驟 4.7.6 思考題主要參考文獻
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