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集成電路工藝PDK技術――基于華大九天設計平臺的PDK開發教程 版權信息
- ISBN:9787121489365
- 條形碼:9787121489365 ; 978-7-121-48936-5
- 裝幀:平塑
- 冊數:暫無
- 重量:暫無
- 所屬分類:>
集成電路工藝PDK技術――基于華大九天設計平臺的PDK開發教程 內容簡介
從集成電路產業鏈來看,設計與制造是*核心的兩大環節。PDK技術正是將這兩大環節連結在一起的橋梁,同時也是EDA環境中*核心的內容,它使*尖端的制造技術可以應用到*先進的設計過程中。長期以來,PDK技術被國外所壟斷,使得我們在電路設計過程中不得不依賴于國外的EDA環境,給我們國家的集成電路產業帶來"卡脖子”的風險。本書立足于國產EDA工具平臺――華大九天EDA工具集,詳細講述了EPDK的開發流程。全書共有六個章節,分別介紹了PDK的背景、PDK的架構、EPDK開發流程、開發實例,以及驗證方法等內容,并配有相應的習題,使讀者在掌握內容的同時,可以在日常工作中進行實踐。
集成電路工藝PDK技術――基于華大九天設計平臺的PDK開發教程 目錄
第1章 緒論
1.1 PDK簡介
1.2 PDK分類
1.2.1 CPDK
1.2.2 iPDK和OpenAccess數據庫
1.2.3 OpenPDK
1.2.4 ADSPDK
1.3 PDK平臺介紹
1.3.1 國外設計平臺
1.3.2 國外仿真平臺
1.3.3 國外物理驗證平臺
1.4 華大九天PDK平臺
習題
參考文獻
第2章 PDK開發基礎
2.1 PDK開發準備
2.2 新建工程
習題
參考文獻
第3章 EPDK開發
3.1 符號
3.2 TF
3.3 CDF
3.3.1 CDF介紹
3.3.2 CDF操作流程
3.4 回調函數基礎
3.4.1 TCL簡單介紹
3.4.2 TCL在回調函數中的應用示例
3.5 Pcell文件
3.5.1 PythonAPI介紹
3.5.2 基本的形狀類函數介紹
3.5.3 PyCell文件添加和運行
3.6 模型及網表文件
3.6.1 MOSFET模型介紹
3.6.2 HBT模型介紹
3.6.3 HEMT模型介紹
3.6.4 DIO模型介紹
3.6.5 無源器件模型介紹
3.6.6 網表介紹
3.7 物理驗證文件
3.7.1 設計規則檢查
3.7.2 版圖與原理圖一致性檢查
3.7.3 寄生參數提取
3.8 仿真和EM仿真
3.8.1 ALPS仿真器介紹
3.8.2 Netlist Include控件仿真
3.8.3 Process Include元件
3.8.4 數據導入和導出
3.8.5 數據圖形計算
3.8.6 仿真控件
3.8.7 仿真模板添加
3.8.8 MOSFET仿真示例
3.8.9 襯底文件設置
3.8.10 EM仿真工具
3.9 PDK元件幫助
習題
參考文獻
第4章 EPDK實例
4.1 無源器件開發實例
4.1.1 電容
4.1.2 電阻
4.1.3 電感
4.2 有源器件開發實例
4.2.1 二極管
4.2.2 HEMT
4.2.3 HBT
4.2.4 MOSFET
4.3 傳輸線開發實例
4.3.1 MLine
4.3.2 MCLine
4.3.3 MCFilter
4.3.4 MBend
4.3.5 MCross
4.3.6 MCurve
4.3.7 MStep
4.3.8 MTaper
4.3.9 MTee
習題
參考文獻
第5章 EPDK驗證
5.1 回調函數驗證
5.2 網表驗證
5.3 參數化單元驗證
5.4 模型驗證
5.5 物理規則驗證
習題
參考文獻
第6章 結束語
附錄A 專業詞匯表
集成電路工藝PDK技術――基于華大九天設計平臺的PDK開發教程 作者簡介
劉軍,研究員,博導。愛爾蘭都柏林城市大學電子工程系博士畢業,現任杭州電子科技大學EDA技術創新中心主任,中國電子學會電路與系統分會委員會委員,北京華大九天科技股份有限公司射頻EDA技術顧問。在射頻/微波毫米波集成電路工藝建模建庫、PDK技術,異構集成微系統協同仿真設計技術等領域積累豐富的科研和產品研發經驗。陳展飛,杭州電子科技大學電路與系統專業博士,比利時微電子中心訪學,現任寧波數字孿生(東方理工)研究院副研究員。主要從事半導體工藝模型庫,PDK技術,以及EDA工具研究,在半導體模型及PDK領域有豐富的理論與產業經驗。朱能勇,北京華大九天科技股份有限公司研發副總經理,中國科學院大學集成電路專業碩士,具有豐富的EDA行業經驗以及團隊領導經驗。主要研究領域為晶圓制造、全定制電路設計、先進封裝/3D IC設計等相關EDA工具開發。曾負責承擔國家發改委、科技部、廣東省的多項研發任務,相關工具已在多個國內重要行業獲得應用驗證。
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