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材料發(fā)射率測量技術(shù)與應(yīng)用 版權(quán)信息
- ISBN：9787502486808
- 條形碼：9787502486808 ; 978-7-5024-8680-8
- 裝幀：一般膠版紙
- 冊數(shù)：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>
材料發(fā)射率測量技術(shù)與應(yīng)用 內(nèi)容簡介
本書通過對發(fā)射率的基礎(chǔ)介紹，通過原理、試驗(yàn)、數(shù)據(jù)等方方面面介紹了主流發(fā)射率的測量方法和測量設(shè)備的介紹。通過紅外輻射的知識，從輻射的單位和輻射的度量為出發(fā)點(diǎn)，詳細(xì)結(jié)合原理推導(dǎo)和各大輻射理論得出基本公式和原理。然后從市場和國防的需求面展開對發(fā)射率的研究，結(jié)合國內(nèi)外主流的四種測試表征方法：量熱法、能量法、反射法、多光譜法深入探究討論。再然后介紹了發(fā)射率建模的機(jī)理以及各種建模的方法以及完整的發(fā)射率測量系統(tǒng)中各大部件之間的關(guān)系和要求。*后詳細(xì)介紹了高中低溫相關(guān)測試設(shè)備和手段，以及*近研發(fā)的相關(guān)設(shè)備。
材料發(fā)射率測量技術(shù)與應(yīng)用 目錄
1發(fā)射率概述
1.1 發(fā)射率定義
1.1.1 半球發(fā)射率
1.1.2 方向發(fā)射率
1.1.3 光譜發(fā)射率
1.1.4 全波長發(fā)射率
1.2 發(fā)射率與輻射測溫關(guān)系
1.2.1 熱輻射體的分類
1.2.2 輻射溫度分類
1.3 發(fā)射率變化規(guī)律
1.4 發(fā)射率測量技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域
1.4.1 航空航天
1.4.2 國防軍事
1.4.3 FT-IR生產(chǎn)
1.4.4 能源利用
1.4.5 節(jié)能環(huán)保
2發(fā)射率測量方法
2.1 量熱法
2.1.1 穩(wěn)態(tài)量熱法
2.1.2 瞬態(tài)量熱法
2.2 能量法
2.2.1 測量原理
2.2.2 FT.IR光譜法
2.3 反射法
2.3.1 熱腔反射計
2.3.2 積分球
2.3.3 積分球測溫方法
2.4 多光譜法
2.4.1 測量原理
2.4.2 發(fā)射率假設(shè)模型
3發(fā)射率測量理論基礎(chǔ)
3.1 紅外輻射
3.2 輻射度量
3.3 黑體理論
3.3.1 基爾霍夫定律
3.3.2 黑體輻射
3.3.3 輻射亮度與能量密度的關(guān)系
3.3.4 朗伯輻射體
3.4 黑體輻射定律
3.4.1 普朗克公式
3.4.2 維恩位移定律
3.4.3 斯蒂芬.玻耳茲曼定律
4發(fā)射率機(jī)理模型
4.1 金屬材料
4.1.1 Drude模型
4.1.2 常見金屬發(fā)射率模型
4.2 非金屬材料
4.2.1 洛倫茲復(fù)介電函數(shù)模型
4.2.2 SiC材料發(fā)射率模型
4.3 多膜系材料
4.3.1 有效介質(zhì)理論
4.3.2 傳播矩陣?yán)碚?br /> 4.3.3 太陽能吸熱材料發(fā)射率模型
4.4 涂層材料
4.4.1 Mie散射理論
4.4.2 Kubelka-Munk理論
4.4.3 紅外低發(fā)射率涂層發(fā)射率模型
4.4.4 光譜帶寬發(fā)射率的計算
4.5 表面形貌對發(fā)射率的影響
4.5.1 材料光譜發(fā)射率與表面形貌參數(shù)關(guān)系
4.5.2 光學(xué)光滑表面
4.5.3 光學(xué)粗糙表面
5發(fā)射率測量技術(shù)基礎(chǔ)
5.1 黑體
5.1.1 面源黑體
5.1.2 腔式黑體
5.2 加熱技術(shù)
5.2.1 電阻加熱
5.2.2 激光加熱
5.2.3 感應(yīng)加熱
5.3 紅外探測器
5.3.1 光伏探測器
5.3.2 光電導(dǎo)探測器
5.3.3 熱釋電探測器
5.3.4 熱電堆
5.4 分光器件
5.4.1 濾光片
.5.4.2 單色儀
5.4.3 光譜儀
5.5 信號處理
5.5.1 放大
5.5.2 濾波
5.5.3 鎖相放大器
5.6 真空技術(shù)
5.6.1 艙體設(shè)計
5.6.2 真空測量
5.6.3 真空泵
6低溫材料發(fā)射率測量
6.1 測量原理
6.2 系統(tǒng)設(shè)計
6.2.1 真空腔體及泵組
6.2.2 Bolometer探測器
6.2.3 低溫液氮罩
6.2.4 光路調(diào)整及斬波裝置
6.3 光路
6.4 真空倉升降機(jī)構(gòu)
7高溫材料發(fā)射率測量
7.1 高溫光譜發(fā)射率測量系統(tǒng)設(shè)計的技術(shù)指標(biāo)
7.2 試樣加熱源
7.2.1 加熱方式和加熱體的選擇
7.2.2 中溫試樣加熱爐
7.2.3 高溫試樣加熱爐
7.3 高溫輻射樣品的表面溫度分析
7.3.1 樣品表面溫度的理論估計
7.3.2 樣品溫度測量誤差對光譜發(fā)射率測量結(jié)果的影響
7.3.3 樣品參數(shù)對溫度測量結(jié)果的影響
7.4 黑體輻射參考源
7.4.1 中溫黑體爐
7.4.2 超高溫黑體爐
7.4.3 黑體空腔有效發(fā)射率的蒙特卡洛法計算
7.5 恒溫背景光學(xué)系統(tǒng)
7.5.1 恒溫光學(xué)背景
7.5.2 反射聚焦鏡
7.5.3 紅外窗口的選擇
7.5.4 試樣與黑體輻射光路的一致性
7.6 溫度控制系統(tǒng)
7.7 硅光電高溫計
8常溫光譜發(fā)射率測量技術(shù)
8.1 基于積分球反射計的發(fā)射率測量原理
8.1.1 積分球反射計的工作原理
8.1.2 參考標(biāo)準(zhǔn)對發(fā)射率量值傳遞的影響
8.2 輻射功率標(biāo)定的ISR發(fā)射率量值傳遞方法
8.2.1 入射輻射功率的標(biāo)定方法
8.2.2 反射輻射功率的推導(dǎo)方法
8.2.3 光譜發(fā)射率的量值傳遞模型
9多光譜發(fā)射率測量技術(shù)
9.1 基本原理
9.2 技術(shù)應(yīng)用
9.2.1 關(guān)鍵技術(shù)
9.2.2 技術(shù)路線
參考文獻(xiàn)
1.1 發(fā)射率定義
1.1.1 半球發(fā)射率
1.1.2 方向發(fā)射率
1.1.3 光譜發(fā)射率
1.1.4 全波長發(fā)射率
1.2 發(fā)射率與輻射測溫關(guān)系
1.2.1 熱輻射體的分類
1.2.2 輻射溫度分類
1.3 發(fā)射率變化規(guī)律
1.4 發(fā)射率測量技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域
1.4.1 航空航天
1.4.2 國防軍事
1.4.3 FT-IR生產(chǎn)
1.4.4 能源利用
1.4.5 節(jié)能環(huán)保
2發(fā)射率測量方法
2.1 量熱法
2.1.1 穩(wěn)態(tài)量熱法
2.1.2 瞬態(tài)量熱法
2.2 能量法
2.2.1 測量原理
2.2.2 FT.IR光譜法
2.3 反射法
2.3.1 熱腔反射計
2.3.2 積分球
2.3.3 積分球測溫方法
2.4 多光譜法
2.4.1 測量原理
2.4.2 發(fā)射率假設(shè)模型
3發(fā)射率測量理論基礎(chǔ)
3.1 紅外輻射
3.2 輻射度量
3.3 黑體理論
3.3.1 基爾霍夫定律
3.3.2 黑體輻射
3.3.3 輻射亮度與能量密度的關(guān)系
3.3.4 朗伯輻射體
3.4 黑體輻射定律
3.4.1 普朗克公式
3.4.2 維恩位移定律
3.4.3 斯蒂芬.玻耳茲曼定律
4發(fā)射率機(jī)理模型
4.1 金屬材料
4.1.1 Drude模型
4.1.2 常見金屬發(fā)射率模型
4.2 非金屬材料
4.2.1 洛倫茲復(fù)介電函數(shù)模型
4.2.2 SiC材料發(fā)射率模型
4.3 多膜系材料
4.3.1 有效介質(zhì)理論
4.3.2 傳播矩陣?yán)碚?br /> 4.3.3 太陽能吸熱材料發(fā)射率模型
4.4 涂層材料
4.4.1 Mie散射理論
4.4.2 Kubelka-Munk理論
4.4.3 紅外低發(fā)射率涂層發(fā)射率模型
4.4.4 光譜帶寬發(fā)射率的計算
4.5 表面形貌對發(fā)射率的影響
4.5.1 材料光譜發(fā)射率與表面形貌參數(shù)關(guān)系
4.5.2 光學(xué)光滑表面
4.5.3 光學(xué)粗糙表面
5發(fā)射率測量技術(shù)基礎(chǔ)
5.1 黑體
5.1.1 面源黑體
5.1.2 腔式黑體
5.2 加熱技術(shù)
5.2.1 電阻加熱
5.2.2 激光加熱
5.2.3 感應(yīng)加熱
5.3 紅外探測器
5.3.1 光伏探測器
5.3.2 光電導(dǎo)探測器
5.3.3 熱釋電探測器
5.3.4 熱電堆
5.4 分光器件
5.4.1 濾光片
.5.4.2 單色儀
5.4.3 光譜儀
5.5 信號處理
5.5.1 放大
5.5.2 濾波
5.5.3 鎖相放大器
5.6 真空技術(shù)
5.6.1 艙體設(shè)計
5.6.2 真空測量
5.6.3 真空泵
6低溫材料發(fā)射率測量
6.1 測量原理
6.2 系統(tǒng)設(shè)計
6.2.1 真空腔體及泵組
6.2.2 Bolometer探測器
6.2.3 低溫液氮罩
6.2.4 光路調(diào)整及斬波裝置
6.3 光路
6.4 真空倉升降機(jī)構(gòu)
7高溫材料發(fā)射率測量
7.1 高溫光譜發(fā)射率測量系統(tǒng)設(shè)計的技術(shù)指標(biāo)
7.2 試樣加熱源
7.2.1 加熱方式和加熱體的選擇
7.2.2 中溫試樣加熱爐
7.2.3 高溫試樣加熱爐
7.3 高溫輻射樣品的表面溫度分析
7.3.1 樣品表面溫度的理論估計
7.3.2 樣品溫度測量誤差對光譜發(fā)射率測量結(jié)果的影響
7.3.3 樣品參數(shù)對溫度測量結(jié)果的影響
7.4 黑體輻射參考源
7.4.1 中溫黑體爐
7.4.2 超高溫黑體爐
7.4.3 黑體空腔有效發(fā)射率的蒙特卡洛法計算
7.5 恒溫背景光學(xué)系統(tǒng)
7.5.1 恒溫光學(xué)背景
7.5.2 反射聚焦鏡
7.5.3 紅外窗口的選擇
7.5.4 試樣與黑體輻射光路的一致性
7.6 溫度控制系統(tǒng)
7.7 硅光電高溫計
8常溫光譜發(fā)射率測量技術(shù)
8.1 基于積分球反射計的發(fā)射率測量原理
8.1.1 積分球反射計的工作原理
8.1.2 參考標(biāo)準(zhǔn)對發(fā)射率量值傳遞的影響
8.2 輻射功率標(biāo)定的ISR發(fā)射率量值傳遞方法
8.2.1 入射輻射功率的標(biāo)定方法
8.2.2 反射輻射功率的推導(dǎo)方法
8.2.3 光譜發(fā)射率的量值傳遞模型
9多光譜發(fā)射率測量技術(shù)
9.1 基本原理
9.2 技術(shù)應(yīng)用
9.2.1 關(guān)鍵技術(shù)
9.2.2 技術(shù)路線
參考文獻(xiàn)
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材料發(fā)射率測量技術(shù)與應(yīng)用 作者簡介
張宇峰，男，渤海大學(xué)新能源學(xué)院副教授。2014年畢業(yè)于哈爾濱工業(yè)大學(xué)儀器科學(xué)與工程學(xué)院，獲工學(xué)博士學(xué)位。曾出版《移動云計算技術(shù)專題研究》，2016年，東北大學(xué)出版社，第三作者。
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