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實用X射線光譜分析

包郵 實用X射線光譜分析

出版社:化學工業出版社出版時間:2017-02-01
開本: 32開 頁數: 365
本類榜單:醫學銷量榜
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實用X射線光譜分析 版權信息

  • ISBN:9787122279590
  • 條形碼:9787122279590 ; 978-7-122-27959-0
  • 裝幀:暫無
  • 冊數:暫無
  • 重量:暫無
  • 所屬分類:>>

實用X射線光譜分析 本書特色

本書是現代X射線光譜分析綜合性參考書。全書共分十七章,系統介紹X射線的物理基礎,基本性質,激發,色散,探測與測量,波長色散與能量色散光譜儀,基體效應,光譜背景和譜線重疊,樣品制備,定性與半定量分析,實驗校正法,數學校正法定量分析,薄膜和鍍層厚度分析,應用實例及分析誤差與不確定度等內容。附錄列舉了X射線熒光光譜分析常用的物理常數,相關數據等,供讀者參考使用。本書適用于冶金,地質,礦山,建材,檢驗檢疫,石油,化工,環境,農業,生物,食品,醫藥,文物及考古等部門從事X射線光譜分析的專業人員及相關工程技術人員參考,同時適用于高等院校相關專業師生,研究生及科研院所工程技術人員參考。

實用X射線光譜分析 內容簡介

本書是作者四十年從業經驗的積累和總結,內容考究,系統闡述X射線的物理基礎,波長色散與能量色散X射線光譜分析原理及儀器結構,定性與定量分析方法特點及應用等。

實用X射線光譜分析 目錄

第1章X射線的物理基礎001 1.1X射線的定義001 1.2X射線光譜002 1.2.1連續X射線光譜002 1.2.2原子結構及軌道能級004 1.2.3特征X射線光譜007 1.2.4莫塞萊定律008 1.2.5特征X射線光譜強度間的相對關系009 1.3俄歇效應:伴線010 1.4熒光效應:熒光產額011 參考文獻012 第2章X射線的基本性質013 2.1X射線的散射013 2.1.1相干散射014 2.1.2康普頓散射015 2.2X射線的衍射與偏轉017 2.2.1布拉格衍射原理017 2.2.2X射線的偏轉019 2.2.3鏡面反射020 2.2.4全反射020 2.3X射線的吸收021 2.3.1質量吸收或衰減系數022 2.3.2質量吸收或衰減系數與波長及原子序數的關系023 2.3.3吸收限及臨界厚度023 2.3.4反平方定律025 參考文獻026 第3章X射線的激發027 3.1初級激發027 3.2次級激發028 3.2.1單色激發028 3.2.2多色激發029 3.3互致激發(次生激發)031 3.4激發源032 3.4.1放射性同位素033 3.4.2同步輻射光源035 3.4.3X射線管036 3.4.4二次靶038 參考文獻039 第4章X射線的色散040 4.1概述040 4.2波長色散040 4.3能量色散042 4.4非色散044 參考文獻047 第5章X射線的探測048 5.1概述048 5.2氣體正比型探測器049 5.3探測器的光電轉換參數055 5.4閃爍計數器058 5.5固體探測器059 5.5.1鋰漂移硅[Si(Li)]探測器060 5.5.2珀爾貼(Peltier)效應062 5.5.3SiPIN探測器063 5.5.4硅漂移探測器(SDD)064 5.5.5高純鍺(Ge)探測器064 5.6探測效率及能量分辨率065 5.6.1量子計數效率065 5.6.2能量分辨率067 5.7各種常用探測器的比較070 參考文獻071 第6章X射線的測量073 6.1測量系統073 6.1.1概述073 6.1.2前置放大器074 6.1.3主放大器074 6.1.4脈沖高度選擇器075 6.1.5脈沖高度分布曲線077 6.1.6多道脈沖分析器(MCA)079 6.1.7脈沖高度分布的自動選擇081 6.1.8定標器及定時器082 6.1.9微處理機082 6.2測量方法082 6.2.1定時計數(FT)法083 6.2.2定數計時(FC)法083 6.2.3*佳定時計數(FTO)法084 參考文獻085 第7章波長色散X 射線熒光光譜儀086 7.1概述086 7.2波長色散光譜儀的基本結構086 7.2.1X光管087 7.2.2準直器091 7.2.3輻射光路092 7.2.4分光晶體093 7.2.5平面晶體色散裝置098 7.2.6彎曲晶體色散裝置099 7.2.7測角儀101 7.3探測器102 7.4脈沖高度分布及脈沖高度分析器103 7.5定標計數電路105 7.6測量參數的選擇106 參考文獻109 第8章能量色散X射線熒光光譜儀110 8.1概述110 8.2光譜儀結構111 8.2.1能量色散探測器112 8.2.2多道脈沖高度分析器114 8.2.3濾光片及其選擇117 8.2.4X光管120 8.3通用型能量色散光譜儀120 8.4三維光學能量色散光譜儀122 8.4.1偏振原理123 8.4.2二次靶124 8.5譜處理技術127 8.5.1光譜數據的基本組成128 8.5.2譜處理的基本步驟133 8.5.3常用的譜處理方法135 8.6能量色散X射線熒光分析技術的特殊應用147 8.6.1全反射X射線熒光光譜分析(TXRF)147 8.6.2同步輻射X射線熒光光譜分析(SRXRF)152 8.6.3微束X射線熒光光譜分析(μXRF)153 參考文獻159 第9章基體效應161 9.1概述161 9.2基體效應162 9.2.1吸收增強效應162 9.2.2吸收增強效應對校準曲線的影響164 9.2.3吸收增強效應的預測164 9.3物理化學效應166 9.3.1顆粒度,均勻性及表面結構影響166 9.3.2樣品的化學態效應170 9.3.3樣品的無限厚度與分析線波長的關系171 參考文獻174 第10章光譜背景和譜線重疊175 10.1光譜背景175 10.2光譜背景的起源與性質176 10.2.1光譜背景的測量與校正176 10.2.2降低背景的若干方法180 10.3光譜干擾的來源181 10.3.1光譜干擾的類別181 10.3.2消除干擾的方法183 10.4靈敏度S189 10.4.1檢測下限189 10.4.2定量下限190 參考文獻191 第11章定性與半定量分析192 11.1概述192 11.2光譜的采集與記錄194 11.3譜峰的識別與定性分析198 11.3.1譜峰的平滑198 11.3.2譜峰的檢索199 11.3.3譜峰的識別(匹配)200 11.3.4元素標注202 11.4半定量分析202 參考文獻208 第12章定量分析——實驗校正法210 12.1概述210 12.2標準校準法210 12.3加入內標校準法211 12.4散射內標法215 12.4.1散射背景比例法215 12.4.2散射靶線比例法216 12.5二元比例法218 12.6基體稀釋法219 12.7薄膜法(薄試樣法)220 參考文獻221 第13章定量分析——數學校正法223 13.1概述223 13.2數學校正法223 13.2.1經驗系數法223 13.2.2理論影響系數法228 13.2.3基本參數法229 13.3X射線熒光理論強度的計算232 參考文獻241 第14章樣品制備243 14.1概述243 14.2固體樣品的制備243 14.3粉末試樣的制備246 14.3.1松散粉末的制備248 14.3.2粉末壓片248 14.4熔融法250 14.4.1經典熔融法252 14.4.2熔融設備257 14.4.3離心澆鑄重熔技術259 14.5液體試樣的制備261 14.5.1溶液法261 14.5.2離子交換法262 參考文獻263 第15章應用實例264 15.1痕量元素分析264 15.1.1概述264 15.1.2背景及光譜重疊的校正方法264 15.1.3基體影響的校正268 15.1.4校準曲線270 15.2寬范圍氧化物分析272 15.2.1概述272 15.2.2方法要點272 15.2.3合成標準的配制273 15.2.4樣品制備273 15.2.5分析測量條件274 15.2.6方法驗證275 15.3油類分析277 15.3.1概述277 15.3.2方法要點277 15.3.3結論280 15.4鋼鐵與合金分析281 15.4.1概述281 15.4.2方法要點282 15.4.3分析測量參數283 15.4.4方法準確度的驗證284 15.5痕量元素的能量色散X射線熒光光譜分析285 15.5.1概述285 15.5.2儀器及實驗條件285 15.5.3方法要點285 15.6高能激發能量色散X射線熒光光譜分析287 15.6.1概述287 15.6.2方法要點288 15.6.3儀器及測量條件289 15.6.4樣品制備290 15.6.5校準的準確度290 參考文獻292 第16章薄膜和鍍層厚度的測定294 16.1概述294 16.2薄膜及樣品無限厚度的定義294 16.3薄膜厚度測定的基本方法297 16.3.1薄膜 (鍍層)發射法297 16.3.2基底線吸收法298 16.3.3理論校準法299 16.3.4測定多層薄膜的基本參數法301 16.4應用實例303 16.4.1鍍鋅板鍍鋅層質量厚度的測定303 16.4.2彩涂板鍍層厚度及鋁鋅含量的測定304 16.4.3鍍錫板的鍍錫層厚度測定304 16.4.4硅鋼片絕緣層厚度測定305 參考文獻307 第17章分析誤差與不確定度308 17.1概述308 17.2數值分析中的若干基本概念308 17.2.1真值與平均值308 17.2.2精密度和準確度310 17.2.3分析誤差310 17.2.4分布函數311 17.2.5計數統計學與測量誤差314 17.3誤差來源及統計處理316 17.3.1強度計數的標準偏差317 17.3.2*佳計數時間的選擇318 17.3.3提高精密度與準確度的基本措施318 17.4不確定度及計算319 17.4.1測量不確定度319 17.4.2統計不確定度320 17.4.3誤差傳遞與不確定度320 17.4.4不確定度的計算321 17.4.5平均值不確定度的計算321 17.4.6統計波動322 17.5*小二乘法的統計學原理322 17.5.1線性*小二乘法擬合323 17.5.2多元線性擬合325 17.5.3多項式擬合325 17.5.4非線性*小二乘法擬合326 參考文獻328 附錄330 1分析誤差允許范圍330 2常用元素化合物的換算系數表337 3元素名稱,符號,原子序數及相對原子質量數據表342 4K,L,M系激發電位(kV)/結合能(keV)343 5K,L,M系吸收限波長346 6K,L系主要譜線的光子能量348 7K,L,M系平均熒光產額350 8K和LⅢ吸收限陡變比(r)及(r-1)/r值352 9K系主要譜線的波長353 10L系主要譜線的波長356 11M系主要譜線的波長360 12M系主要譜線的光子能量361 索引364
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實用X射線光譜分析 作者簡介

高新華,教授級高級工程師,長期從事X射線光譜學與光譜分析研究工作,儀器研制及培訓。科研方向:X射線熒光光譜分析涉及物理,化學,電子光學,X射線學,電子學,數學等專業。

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